常熟鍍膜玻璃工藝流程

詳細介紹

鍍膜玻璃廠的工藝流程
玻(bo)璃(li)鍍膜就是在玻(bo)璃(li)表面涂渡一層或(huo)多層金(jin)屬(shu)膜或(huo)金(jin)屬(shu)化合物，以改變玻(bo)璃(li)光學(xue)性能。鍍膜玻(bo)璃(li)廠
玻璃鍍膜的(de)方法(fa)分(fen)為四類：
化學沉積(ji)法、熱蒸(zheng)發鍍、機械（包括噴涂和(he)浸漬兩種方(fang)法）以(yi)及目前比較(jiao)先進的(de)(de)(de)磁控(kong)賤射(she)鍍膜(mo)。這些技(ji)術的(de)(de)(de)原理和(he)設備(bei)都(dou)不一樣，也不能互換(huan)。鍍膜(mo)玻(bo)璃生產方(fang)法都(dou)是在玻(bo)璃表(biao)(biao)面(mian)涂以(yi)金(jin)、銀(yin)、銅、鋁、鎳、鐵(tie)錫等金(jin)屬，金(jin)屬氧(yang)化物(wu)或非金(jin)屬氧(yang)化物(wu)薄膜(mo)：或采(cai)用電(dian)浮法、等離(li)子法，像玻(bo)璃表(biao)(biao)面(mian)層深入金(jin)屬離(li)子以(yi)置換(huan)玻(bo)璃表(biao)(biao)面(mian)層原有(you)的(de)(de)(de)離(li)子而形成的(de)(de)(de)陽光控(kong)制鍍膜(mo)。鍍膜(mo)前清洗(xi)鍍膜(mo)前清洗(xi)的(de)(de)(de)主要(yao)污(wu)染物(wu)是油污(wu)、手印(yin)、灰塵(chen)等。由于鍍膜(mo)工序(xu)對鏡片潔凈度的(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)極為嚴格(ge)，因(yin)此清洗(xi)劑(ji)的(de)(de)(de)選擇是很重要(yao)的(de)(de)(de)。
在考(kao)慮(lv)某種清(qing)(qing)(qing)洗(xi)劑(ji)的清(qing)(qing)(qing)洗(xi)能力的同(tong)時，還要考(kao)慮(lv)到(dao)他的腐蝕性等方面的問題。分為有機溶劑(ji)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)和半水(shui)基清(qing)(qing)(qing)洗(xi)。
有機(ji)溶(rong)劑清(qing)洗采用的清(qing)洗流(liu)程如下：有機(ji)溶(rong)劑清(qing)洗劑（超聲(sheng)波）-水(shui)(shui)(shui)基清(qing)洗劑（超聲(sheng)波）-市(shi)水(shui)(shui)(shui)漂洗-純水(shui)(shui)(shui)漂洗-IPA（異丙醇）脫(tuo)水(shui)(shui)(shui)-IPA慢(man)拉干燥。
半水基清洗采(cai)用(yong)(yong)的清洗流程(cheng)如(ru)下：半水基清洗劑（超聲(sheng)波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢(man)拉干燥真(zhen)空(kong)蒸(zheng)(zheng)(zheng)發(fa)(fa)(fa)鍍膜(mo)(mo)是(shi)將(jiang)被(bei)鍍零件和膜(mo)(mo)層材料(liao)，以一(yi)定(ding)的相對(dui)位置，放在(zai)一(yi)個真(zhen)空(kong)空(kong) 間，采(cai)用(yong)(yong)一(yi)定(ding)的方法，使膜(mo)(mo)料(liao)氣化(hua)或(huo)升華(hua)，形成(cheng)具有一(yi)定(ding)動能的分子(zi)(zi)(zi)（原子(zi)(zi)(zi)或(huo)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)），離(li)(li)開蒸(zheng)(zheng)(zheng)發(fa)(fa)(fa)器(qi)飛向被(bei)鍍零件表(biao)面，在(zai)表(biao)面上淀(dian)積形成(cheng)薄膜(mo)(mo)。真(zhen)空(kong)蒸(zheng)(zheng)(zheng)發(fa)(fa)(fa)包(bao)括(kuo)三個主(zhu)要系(xi)統：真(zhen)空(kong)系(xi)統、蒸(zheng)(zheng)(zheng)發(fa)(fa)(fa)系(xi)統、膜(mo)(mo)厚監控(kong)系(xi)統。其(qi)中真(zhen)空(kong)系(xi)統由(you)真(zhen)空(kong)室、機械(xie)泵(beng)、分子(zi)(zi)(zi)泵(beng)（油擴散泵(beng)）、管(guan)道(dao)、閥(fa)門、真(zhen)空(kong)測量裝置等部(bu)分組(zu)成(cheng)。蒸(zheng)(zheng)(zheng)發(fa)(fa)(fa)系(xi)統采(cai)用(yong)(yong)電子(zi)(zi)(zi)槍蒸(zheng)(zheng)(zheng)發(fa)(fa)(fa)，其(qi)主(zhu)要由(you)燈絲、高壓線圈(quan)、偏(pian)轉線圈(quan)、坩堝等組(zu)成(cheng)。膜(mo)(mo)厚監控(kong)系(xi)統采(cai)用(yong)(yong)光電極(ji)值法，其(qi)主(zhu)要由(you)光源、比較(jiao)片、單(dan)色儀(yi)、光電倍(bei)增管(guan)、膜(mo)(mo)厚控(kong)制儀(yi)及穩(wen)流穩(wen)壓電源組(zu)成(cheng)。磁(ci)濺射是(shi)先對(dui)玻璃進行(xing)清洗，在(zai)高真(zhen)空(kong)倉室的靶材賤射區經過靶材離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)賤射而鍍膜(mo)(mo)的。