無錫鍍膜玻璃工藝流程

詳細介紹

鍍膜玻璃廠的工藝流程
玻(bo)(bo)(bo)璃(li)鍍(du)膜(mo)就是在玻(bo)(bo)(bo)璃(li)表面涂渡一(yi)層(ceng)或(huo)多層(ceng)金屬(shu)(shu)膜(mo)或(huo)金屬(shu)(shu)化合(he)物，以改變玻(bo)(bo)(bo)璃(li)光學(xue)性能。鍍(du)膜(mo)玻(bo)(bo)(bo)璃(li)廠
玻(bo)璃鍍膜的方法分(fen)為四類：
化學沉(chen)積法、熱(re)蒸(zheng)發鍍(du)、機(ji)械（包括噴涂(tu)和浸(jin)漬(zi)兩種方(fang)法）以及目前比較先進(jin)的(de)(de)磁(ci)控賤射鍍(du)膜(mo)。這些技(ji)術的(de)(de)原理和設(she)備都不(bu)一樣，也不(bu)能互換。鍍(du)膜(mo)玻(bo)(bo)璃生產(chan)方(fang)法都是在玻(bo)(bo)璃表面(mian)涂(tu)以金、銀、銅、鋁、鎳、鐵錫等(deng)金屬(shu)，金屬(shu)氧化物或(huo)非(fei)金屬(shu)氧化物薄(bo)膜(mo)：或(huo)采用電浮法、等(deng)離子法，像玻(bo)(bo)璃表面(mian)層深入金屬(shu)離子以置換玻(bo)(bo)璃表面(mian)層原有的(de)(de)離子而(er)形(xing)成的(de)(de)陽光控制(zhi)鍍(du)膜(mo)。鍍(du)膜(mo)前清洗(xi)(xi)鍍(du)膜(mo)前清洗(xi)(xi)的(de)(de)主要污染物是油污、手(shou)印、灰塵等(deng)。由(you)于鍍(du)膜(mo)工序(xu)對鏡(jing)片潔凈(jing)度(du)的(de)(de)要求極(ji)為嚴格(ge)，因此清洗(xi)(xi)劑的(de)(de)選擇是很重要的(de)(de)。
在考慮某(mou)種清洗劑的(de)清洗能(neng)力的(de)同時，還要考慮到他的(de)腐蝕性等(deng)方面的(de)問題。分為(wei)有機溶劑清洗和半水基清洗。
有(you)機(ji)溶劑(ji)清(qing)洗(xi)(xi)采(cai)用(yong)的清(qing)洗(xi)(xi)流(liu)程如下：有(you)機(ji)溶劑(ji)清(qing)洗(xi)(xi)劑(ji)（超聲波）-水(shui)基(ji)清(qing)洗(xi)(xi)劑(ji)（超聲波）-市水(shui)漂洗(xi)(xi)-純水(shui)漂洗(xi)(xi)-IPA（異丙醇）脫水(shui)-IPA慢拉干燥(zao)。
半水(shui)基清洗采用(yong)(yong)的(de)清洗流(liu)程如下：半水(shui)基清洗劑(ji)（超聲(sheng)波）-市(shi)水(shui)漂(piao)洗-水(shui)基清洗劑(ji)-市(shi)水(shui)漂(piao)洗-純(chun)水(shui)漂(piao)洗-IPA脫水(shui)-IPA慢(man)拉干燥真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)蒸發(fa)鍍(du)(du)膜(mo)是將被鍍(du)(du)零件(jian)和膜(mo)層(ceng)材料，以(yi)一(yi)定(ding)(ding)的(de)相(xiang)對位置，放在(zai)(zai)(zai)一(yi)個真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)空(kong)(kong) 間，采用(yong)(yong)一(yi)定(ding)(ding)的(de)方法，使膜(mo)料氣化或升華(hua)，形成(cheng)(cheng)具有(you)一(yi)定(ding)(ding)動能的(de)分子（原子或離(li)子），離(li)開蒸發(fa)器飛向被鍍(du)(du)零件(jian)表面，在(zai)(zai)(zai)表面上淀(dian)積形成(cheng)(cheng)薄膜(mo)。真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)蒸發(fa)包括三個主(zhu)要(yao)(yao)系(xi)統：真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)系(xi)統、蒸發(fa)系(xi)統、膜(mo)厚監(jian)控(kong)系(xi)統。其(qi)中真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)系(xi)統由真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)室、機械泵、分子泵（油擴散泵）、管(guan)道、閥門、真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)測量裝(zhuang)置等部分組成(cheng)(cheng)。蒸發(fa)系(xi)統采用(yong)(yong)電(dian)(dian)子槍蒸發(fa)，其(qi)主(zhu)要(yao)(yao)由燈絲、高壓(ya)線圈、偏轉線圈、坩(gan)堝等組成(cheng)(cheng)。膜(mo)厚監(jian)控(kong)系(xi)統采用(yong)(yong)光電(dian)(dian)極(ji)值法，其(qi)主(zhu)要(yao)(yao)由光源、比較片、單色(se)儀(yi)、光電(dian)(dian)倍(bei)增管(guan)、膜(mo)厚控(kong)制儀(yi)及穩流(liu)穩壓(ya)電(dian)(dian)源組成(cheng)(cheng)。磁濺射(she)是先對玻(bo)璃進行清洗，在(zai)(zai)(zai)高真(zhen)(zhen)(zhen)空(kong)(kong)倉(cang)室的(de)靶材賤射(she)區經(jing)過靶材離(li)子賤射(she)而(er)鍍(du)(du)膜(mo)的(de)。